日本krosaki真空吸盤、靜電吸盤的推薦
靜電吸盤
靜電吸盤用于在半導(dǎo)體制造的真空工藝中固定、運(yùn)輸和校直晶圓。
我們的Johnsen-Rahbek型靜電吸盤因其的材料技術(shù)和加工技術(shù)而受到好評(píng)。
特征
出色的附著/分離響應(yīng)能力
通過(guò)優(yōu)化材料結(jié)構(gòu)，表現(xiàn)出極其優(yōu)異的附著/分離響應(yīng)。
這有助于顯著提高吞吐量。
優(yōu)異的平整度
我們的拋光技術(shù)可在整個(gè)表面上提供高精度的平整度。
此外，還可實(shí)現(xiàn)優(yōu)異的表面粗糙度，從而實(shí)現(xiàn)高吸附能力并減少顆粒量。
高耐用性
由于電介質(zhì)、內(nèi)部電極和絕緣體作為一個(gè)整體進(jìn)行燒制，因此與使用粘合劑集成的靜電吸盤相比，它具有長(zhǎng)期穩(wěn)定性。
物性表
| 材料 |
| Al 2 O 3 (添加TiO 2 ) |
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| 比重 | - | 3.98 |
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| 楊氏模量 | GPa | 400 |
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| 泊松比 | - | 0.24 |
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| 斷裂韌性值 | 兆帕·米1/2 | 4.6 |
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| 維氏硬度 | 98N,GPa | 14 |
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| 相對(duì)介電常數(shù) | - | 10.7 |
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*所列數(shù)據(jù)為典型值，并非保證值。
產(chǎn)品數(shù)據(jù)（參考值）
*所列數(shù)據(jù)為典型值，并非保證值。
真空吸盤
利用多孔陶瓷特性的真空吸盤。
多孔陶瓷是具有從內(nèi)部到表面連續(xù)連通的孔（連通孔）的陶瓷，就像海綿一樣。
還有各種其他名稱，如真空吸盤、真空吸盤、吸盤等，但通過(guò)在吸附表面上產(chǎn)生真空，將被吸附的物體保持在大氣壓力下并固定（吸盤））相同。該原理適用于吸盤之類的東西。
以前，通過(guò)加工凹槽和孔來(lái)形成空氣通道來(lái)吸附空氣，但薄膜等薄的吸附材料存在被吸入凹槽和孔中并變形等問(wèn)題。另一方面，多孔陶瓷具有遍布整個(gè)表面的微米級(jí)孔，可以均勻地吸附被吸附材料而不使其變形。
我們的真空吸盤可以從材料到加工以一體化方式制造，并且我們有多種選擇。
多孔吸盤
利用多孔陶瓷的特性，可以無(wú)偏壓地均勻吸附并固定整個(gè)物體（薄膜、基板、晶圓等）。
只要處于大氣壓下，無(wú)論磁性還是非磁性，都有可能吸引磁鐵。
適用于固定薄膜產(chǎn)品，例如薄半導(dǎo)體器件、固定 3D 內(nèi)存基板、固定薄膜/膠片以及倒裝芯片接合機(jī)的吸附臺(tái)。
局部吸臺(tái)AH吸盤
該吸盤采用特殊材料多孔陶瓷（AH材料），可實(shí)現(xiàn)局部吸力。
單臺(tái)可拾取8英寸、12英寸等不同尺寸的工件。
普通的多孔吸盤必須覆蓋整個(gè)表面才能固定，因?yàn)槲P表面將因泄漏而不再是真空，但AH吸盤采用孔徑和孔隙率受控的材料，可以防止從開放部分泄漏?？梢赃M(jìn)行固定以抑制壓力并保持真空狀態(tài)。
它可用于多種用途，例如用于干處理的抽吸臺(tái)和用于檢查不規(guī)則形狀物體的固定臺(tái)。
產(chǎn)品陣容/技術(shù)介紹
陣容
| 產(chǎn)品名稱 | 平均孔徑 [μm] | 孔隙率[%] |
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| MP580 | 第580章 | 45～50 |
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| MP230 | 230 | 45～50 |
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| MP130 | 130 | 45～50 |
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| MP100 | 100 | 45～50 |
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| MP060 | 60 | 45～50 |
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| MP040 | 40 | 45～50 |
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| 電導(dǎo)率 | 二十五 | 15-18日 |
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| 啊 | 2 | 30～35 |
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*所列數(shù)據(jù)為典型值，并非保證值。
高精度多孔吸盤
《粘合面SEM照片》
?與將金屬（SUS或鋁）底座粘合到多孔陶瓷上的標(biāo)準(zhǔn)產(chǎn)品不同，我們使用輕質(zhì)（密度3.9g/cm 3）和高剛性的氧化鋁陶瓷作為底座，使吸盤更易于使用。提高各種尺寸精度。
- φ300尺寸可適應(yīng)3μm以下的平面平行度。
?與金屬真空吸盤相比，隨著時(shí)間和溫度的變化，接合精度的穩(wěn)定性大大提高。
- 特殊粘合解決了粘合界面出現(xiàn)間隙的問(wèn)題，不會(huì)因吸力或壓力而產(chǎn)生凹痕。
